快科技6月8日消息，璞璘科技近日向深圳力策科技正式交付型號為PL-AS的半導體級真空氣壓式奈米壓印光刻機。該設備是國內首款光晶片專用奈米壓印微影設備，實現了國產光刻領域新突破。
此次交付的設備型號為PL-AS真空氣壓式奈米壓印光刻機，全程繞開深紫外光刻路線，實現8吋光晶片晶圓規模化量產。
此半導體級設備線寬解析度小於10nm，晶圓整面壓印壓力均勻性誤差低於0.5%，同時支援無殘餘層壓印製程。
本設備採用面接觸氣壓工作模式，晶圓各區域受力均勻，可將殘餘層厚度偏差控制在2nm以內，適配光晶片生產需求。
比較輥壓工藝，此方案規避線接觸帶來的形變問題；相較步進式設備，全域壓印模式大幅提升量產效率。
它可實現跨尺度微納結構一次成型，省去多道複雜光刻工序，在簡化流程的同時保障產品生產良率。
本次合作聚焦雷射雷達晶片量產，協助力策科技旗下光學相控陣晶片，面向車載、智慧終端市場規模化落地。
技術層面，透過8吋規模化量產驗證，證實了國產奈米壓印可在光晶片製造中穩定取代DUV製程。
整套方案搭配客製化雙層壓印膠材料體系，晶片製造成本壓縮至傳統DUV方案的十分之一。
目前這套奈米壓印方案，已在光通訊化合物晶片、矽光環形導光結構晶片領域完成量產驗證。
