DUV光刻機價格戰打響!


尼康新任總裁兼執行長大村康宏近日接受《日經亞洲》採訪時表示,公司計劃以低於行業龍頭ASML的價格銷售氟化氬(ArF)光刻設備,正式向ASML發起價格戰,以爭取更多光刻設備客戶。大村康宏今年4月上任,他透露,尼康正與多家歐美及亞洲大型晶片廠商洽談氟化氬設備新訂單,相關磋商已接近簽訂採購合約階段。

根據集邦諮詢引述尼康財報數據,尼康光刻設備業務近期處境艱難:在截至2024 年3 月的財年內,其僅交付11 台氟化氬光刻設備;進入2025 財年,前三個季度更是零出貨。目前ASML把持著全球超八成光刻設備市場。

尼康此番以價換量,瞄準的是ASML並未形成絕對壟斷的細分領域。在用於頂尖晶片製造的極紫外線(EUV)光刻機市場,ASML擁有無可撼動的壟斷地位;但氟化氬浸沒式微影機屬於技術成熟的深紫外線(DUV)設備,即便是3 奈米晶片,大部分光刻製程仍依賴這類設備。ASML旗下高階氟化氬浸沒式微影機單台均價約8,250 萬美元,也為價格更低的競品留出了市場空間。尼康早在2008 年就已退出極紫外光刻機賽道。

尼康曾在今年2 月宣布,將於2028 財年推出全新一代氟化氬浸沒式微影設備平台。該設備搭載全新鏡頭與晶圓載台,且可相容阿斯麥公司已投入使用的設備。大村康宏表示:“我們大量零件實現自研自產,這讓我們在成本競爭中具備優勢。”

全球目前僅有尼康與ASML兩家企業量產氟化氬微微設備。受人工智慧產業熱潮帶動,相關設備需求持續攀升,市場供應日益緊張。 2025 年,ASML共出貨48 台極紫外光刻機、131 台浸沒式深紫外光刻機,年末手持訂單積壓額達388 億歐元。大村康宏認為,為控制設備採購成本,晶片廠商也傾向選擇兩家供應商,而非單一依賴。

不過,僅靠價格能否挽回顧客仍有待觀察。憑藉長期研發合作以及獨家供應尖端設備的優勢,ASML後來居上,尼康的氟化氬設備市佔率持續下滑。昔日英特爾曾貢獻尼康八成氟化氬設備訂單,如今受自身製造業務困境影響,英特爾也削減了相關採購。

受光刻設備訂單低迷、金屬3D 列印業務表現不佳拖累,尼康在截至今年3 月的財年創下史上最差業績,淨虧損達860 億日圓(約5.4 億美元)。大村康宏稱,後續尼康將精簡業務,聚焦相機與半導體光刻設備兩大核心板塊。

半導體/AI 技術大會

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