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又一好消息!中國攻克光刻機核心部件,宣布擺脫了ASML的壟斷


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在晶元領域,光刻機的重要性就相當於上網時的網路選擇,如果用4G肯定是比5G慢。縱觀全球來看,只有荷蘭阿麥斯一年之內產出20多台這樣的設備。

為何光刻機這個設備如此難造?其實就是因為它的技術。

又一好消息!中國攻克光刻機核心部件,宣布擺脫了ASML的壟斷

據了解,研發光刻機需要掌握兩門核心技術,首先一個是EUV曝光系統,其次一個就是雙工件台。前者中國比較落後,目前正處於深入研究階段。為什麼說是深入研究呢?主要是根據目前的研發水平,只能造出32納米晶元,不能算是最前端產品,所以要繼續深入探索研究。

能造出晶元這就意味著完整的EUV曝光系統研發平台有了,這就是好的一面。

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而反觀雙工件台,中國突破很大,從去全球來看,中國是第二個掌握這個核心技術的國家。

可能有很多人不知道,光刻機有雙工件台和單工件台之分,前者的光刻機有兩個可以承載晶圓的工作台,而後者只有一個。有人會問了,兩個和一個差別是什麼呢?前者生產速度快,生產效率高,並且能夠更系統精準的進行測量;而後者相比機能會下降,效率會下降,壽命也會下降。

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直到目前,雙工件台除了阿麥斯公司量產之外,中國有了樣機,其他國家都沒有,包括美國和日本這些頂尖國家。為什麼一直以來阿麥斯公司賣的光刻機這麼貴?其實一個重要的原因就是這個核心技術——雙工件台。據不完全統計,阿麥斯公司光刻機佔據了全球90的市場。

現如今我國就落後在EUV曝光系統。荷蘭掌握著這兩大核心技術的背後有其他國家的支持,像德國在鏡頭上給予支持,有了強有力的曝光系統他們能生產出3納米的晶元,一個32納米一個3納米,這是什麼概念?

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據了解,現如今日本的EUV曝光系統都要比中國先進,能夠產出20納米的晶元。因為日本一直沒有在雙工件台技術上突破,所以放棄了高端的光刻機產品研發。從全球角度來講,現如今中國是一直沒有放棄追趕,有了雙工件台的技術突破,在不久的將來曝光系統應該也能完成突破。

簡單預估一下,如果5年內能夠造出高端光刻機,那麼在未來的10-20年將會衝擊荷蘭光刻機在全球的市場佔比。

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